PVD - Sputtering
CROMATURA ECOLOGICA

Rivestimenti metallici a film sottili di alta qualità per una varietà di applicazioni tecniche, decorative e funzionali

PVD: Deposizione fisica da fase vapore

Vantaggi della tecnologia PVD:

  • Processo ecologico
  • Anallergico     
  • Bassa manutenzione     
  • Rivestimento uniforme  
  • Durezza elevata  
  • Adesione eccellente
  • Finiture brillanti
  • Resistenza superiore al’usura
  • Resistenza superiore alla corrosione
  • Resistenza chimica
  • Basso coefficiente di attrito 

Settori Applicativi per i Trattamenti PVD Sputtering

  • Automotive
  • Industria
  • Illuminotecnica
  • Idrosanitaria
  • Edilizia
  • Elettrodomestici



PVD Pysical Vapour Deposition

È un processo utilizzabile su scala industriale per rivestimenti protettivi, antiusura e catalitici.

Uno strato sottile di materiale è depositato da fase vapore su un substrato da rivestire. Il deposito puo essere costituito da nanoparticelle isolate, agglomerati di nano particelle o da un film continuo di spessore nanometrico.

Il materiale da depositare è evaporato, in una camera sotto vuoto, per riscaldamento diretto o mediante un fascio elettronico per poi condensare sul substrato freddo.

La PVD puo essere assistita da “ion plating”, in cui il vapore è ionizzato e accelerato da un campo elettrico (la sorgente funziona da catodo e il substrato da anodo).



PVD mediante Sputtering

Nella PVD assistita da “sputtering” (polverizzazione catodica) un campo elettrico accelera degli ioni argon sul target, che emette quindi ioni del materiale da depositare verso il substrato dove vengono neutralizzati. Introducendo un gas reattivo si possono formare composti (ad es.: Ti+0.5N2 -> TiN).

Pressoché ogni metallo o composto che non decompone chimicamente puo essere depositato per “sputtering” , rendendo tale processo molto flessibile.

I “target” possono essere cambiati durante il processo, consentendo la costruzione di multistrati nanostrutturati.

Il processo PVD Sputtering consente una produzione quasi illimitata di rivestimenti su qualsiasi tipo di superficie per creare nuovi materiali più resistenti, leggeri, puliti ed economici.

Costruisce un indistruttibile legame tra il film ed il substrato poiché li salda insieme a livello molecolare. Offre una grande versatilità rispetto ad altri rivestimenti perché, essendo un trasferimento a freddo, può essere usato per depositare materiali conduttivi o isolanti su ogni tipo di substrato, incluso metalli, ceramica e materiali plastici sensibili alle temperature. Inoltre il processo ha un controllo di deposizione ripetibile in automatico.

(cit. EAI - Energia, Ambiente e Innovazione 1-2/2015)




PVD  è un processo fisico ecologico per la produzione di rivestimenti metallici a film sottili senza rischi per i prodotti ottenendo brillanti finiture decorative con ottima resistenza all'usura e alla corrosione.

I rivestimenti PVD mediante Sputtering possono essere utilizzati in tutte le aree possibili:
componenti per automobili, accessori nautici, maniglie e serrature, attrezzature mediche, oggetti in vetro e ceramica, accessori per telefoni cellulari, componenti di ingegneria, accessori di moda, accessori sportivi ...
Lo Sputtering è preferito per applicazioni industriali a causa della versatilità, il suo uso diffuso per spuntare molti materiali. Le condizioni di deposizione possono essere controllate dalla pressione del plasma e del gas, ma sono ragionevolmente indipendenti dalla geometria del substrato.

Da un punto di vista normativo e della sicurezza, i processi PVD sono sicuramente preferibili alla cromatura. Si tratta di processi sotto vuoto, che non prevedono l’uso di agenti chimici pericolosi (PVD)

 

 

 

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